口腔医学专业知识：口腔正畸学简述题（1）

 1.简述X线头影测量的主要应用

(1) 研究颅面生长发育。

(2) 牙颌、颅面畸形的诊断分析。

(3)确定错和畸形的矫治设计。

(4) 研究矫治过程中及矫治后的牙颌、颅面形态结构变化。

(5) 外科正畸的诊断和矫治设计。

(6) 下颌功能分析。

2.简述支抗的定义以及增强支抗的方法

支抗：正畸矫治过程中，任何施于矫治牙使其移动的力必然同时产生一个方向相反、大小相同的力，能抵抗矫治力反作用的结构称之为支抗。

增强支抗的方法：

(1) 增加支抗牙齿的数目。

(2) 可将支抗牙连成一整体而增强支抗作用。

(3) 增大活动矫治器的基托面积，保持与组织面的密贴。

(4) 在应用颌内或颌间支抗的同时加用口外唇弓等。

(5) 加横腭杆。

(6)加Nance弓。

(7)加舌弓。

(8)种植体支抗。

3.简述正畸治疗后进行保持的原因

(1) 肌动力平衡的最终改建尚未完成。

(2) 牙周膜纤维张力未恢复平衡。

(3) 合的平衡尚未建立。

(4) 口腔不良习惯未破除。

(5) 生长型可能影响矫治效果。。

(6) 第三恒磨牙的萌出。